Русский

Ваше местоположение: Оборудование >МЛЭ >Компоненты промышленной МЛЭ > ВЧ плазменный источник RFPS

  • ВЧ плазменный источник RFPS

ВЧ плазменный источник RFPS

ВЧ плазменный источник RFPS специально разработан для получения высокопоточных активных нейтральных частиц. Через катушечную структуру он стимулирует и генерирует плазму в вакуумной камере. Возбуждающие газы включают H₂, N₂, O₂, инертные газы и другие среды — с лучшей стабильностью и более точным управлением. Источник обеспечивает высокопоточные атомарный водород, кислород и азот для систем МЛЭ и пассивации. Специальная сопловая пластина подавляет повреждение подложки.
Описание
Особенности конструкции
● Высокая степень диссоциации и ионизации газов ● Высокий поток активных нейтральных продуктов ● Индуктивно-связанное возбуждение плазмы
Технические характеристики
Модель источникаRFPS200-ARFPS200-BRFPS200-CRFPS200-D
Газовая нагрузкаN2, H2O2, H2N2, H2 O2, H2
Материалы зоны генерации ионовPBNКварцPBNКварц
Размер присоединительного фланцаCF63CF100
Общая длина (мм)824±2824±2
Длина в вакуумной камере (мм)400±2400±2
Наружный диаметр источника в вакуумной камере (мм)5471
Порт охлаждения≥0,5; рекомендуется более 2
Напуск газа1/4 VCR
Устройство согласования ВЧ13,56 МГц / 500 Вт; 1000 Вт опционально
Плазменная спектроскопияОпционально

Для информации о совместимости плазменных источников RFPS с системами МЛЭ Riber или Veeco обращайтесь в Fermion Instruments


Связаться с нами

После получения информации наши специалисты свяжутся с вами

Некоторые продукты могут быть изготовлены по индивидуальному заказу

Ваша информация будет сохранена в тайне

Ваше имя*
Ваш E-mail*
Сообщение
Сопутствующие товары
TOP