Плазменные технологии

Повышение эффективности и мощности генерации плазмы для подготовки к миниатюризации и промышленному применению. УФ-источник света будет ориентирован на пользователей спектральных и масс-спектрометрических исследований, а в перспективе — на высокотехнологичные потребности, такие как литография. Ионный источник будет использоваться в промышленных целях для замены существующих технологий ионных источников.

Более подробная информация будет опубликована в ближайшее время. Следите за обновлениями.