Технология подготовки тонких плёнок

Физическая эпитаксия — это передовая технология приготовления материальных плёнок. Она нагревает твёрдые материалы в вакуумной или низковакуумной среде, преобразует их непосредственно в газовую фазу, а затем осаждает на поверхность подложки, формируя эпитаксиальные плёнки. Эта область охватывает множество технологий, включая молекулярно-лучевую эпитаксию, магнетронное распыление и технологию расщепления покрытий на основе молекулярно-лучевой эпитаксии.

Технология физической эпитаксии подходит для эпитаксиального роста плёнок из полупроводниковых соединений, сплавов, оксидных плёнок и пассивационных слоёв и широко используется в производстве полупроводниковых приборов, оптоэлектронике и лазерной технике.

Основные компетенции Fermion Instruments

Компания Fermion Instruments использует моделирование фундаментальных физических принципов в качестве своей основной технологии, включая прямое моделирование пучка источника методом Монте-Карло и моделирование тепловых полей нагревателя подложки и источника-печи на основе полных физических величин.

На основе этой технологии моделирования мы успешно разработали оборудование для молекулярно-лучевой эпитаксии, магнетронного распыления и установки расщепления покрытий, пригодные для производственных линий. Наши оригинальные компоненты — высокопроизводительный источник-печь, крупногабаритный нагреватель подложки, клапанный крекинг-источник, высокопроизводительный ВЧ-плазменный источник, полностью автоматический робот передачи образцов — обладают ведущими техническими преимуществами и защищены многочисленными патентами на изобретения.

Кроме того, мы разрабатываем новейшие технологии эпитаксиальных подложек, включая кремниевые композитные подложки из карбида кремния на основе атомного замещения и плазменную технологию полировки подложек, пригодную для карбида кремния, алмаза и других материалов. Кремниевая композитная подложка из карбида кремния прошла этапы создания прототипа, отладки и мелкосерийного производства 3-дюймовых подложек, обеспечивая высококачественные и недорогие альтернативы эпитаксиальным подложкам для приборов на широкозонных полупроводниках, таких как нитрид галлия и оксид галлия.

Молекулярно-лучевая эпитаксия

В области молекулярно-лучевой эпитаксии мы обладаем возможностями поставки полного спектра готовых установок МЛЭ и ключевых компонентов. В настоящее время мы продали установки МЛЭ для одного 3-дюймового, одного 4-дюймового, одного 8-дюймового образца и многообразцовые 3- и 4-дюймовые установки. Оборудование прошло верификацию эпитаксиального процесса и применяется для эпитаксии традиционных материалов, таких как GaAs и InP, а также новых материалов, таких как GaN и Ga₂O₃. Мы также поставляем ключевые компоненты — источники-печи, крекинг-источники и нагреватели подложек, совместимые с существующими системами заказчиков, и предоставляем разработку индивидуальных систем для новых материалов и устройств, включая квантовые приборы.

Пассивационное оборудование

Оборудование для обработки и пассивации поверхности соединений, разработанное на основе технологии молекулярно-лучевой эпитаксии, позволяет осуществлять обработку и пассивацию поверхности резонатора лазерных полосок, преодолевая отечественное технологическое отставание. С момента запуска проекта в 2020 году продано более 10 единиц оборудования, что способствует массовому производству отечественных лазерных чипов. В процессе разработки мы не только преодолели технические трудности вакуумного расщепления, но и запустили собственный высокопроизводительный источник атомов H на основе плазменной технологии, обеспечивающий более эффективные методы обработки поверхности резонатора. Эта технология может использоваться не только для очистки поверхности резонатора лазерных полосок, но и для ключевой обработки границ раздела в других микроструктурах, таких как Micro-LED.

Магнетронное распыление

Полностью автоматическая магнетронная производственная линия PV-200C обеспечивает решения для многокамерного роста материалов. Типичные применения включают магнитные туннельные переходы и спиновые логические устройства (GMR, TMR, MRAM), микроэлектромеханические системы (MEMS), органические светоизлучающие устройства (OLED) и солнечные элементы (PV, OPV).

PV-200C позволяет реализовать многокамерное соединение, при этом подложка не подвергается воздействию атмосферы — весь процесс выполняется в вакууме. Установка способна автоматически обрабатывать подложки последовательно или параллельно для повышения производительности. Обеспечивается отслеживание подложек и полная запись данных процесса. Программное обеспечение магнетрона Fermi имеет удобный интерфейс взаимодействия: пользователи могут настраивать технологические рецепты, использовать различные датчики и вакуумные блокировки для обеспечения эффективной и безопасной работы оборудования.

За десять лет развития мы накопили богатый опыт в управлении полным циклом производства и имеем профессиональную сервисную службу, что заслужило высокое признание и доверие многих отечественных и зарубежных клиентов. В последние годы компания успешно привлекла несколько раундов финансирования и обладает прочной финансовой базой для поддержки разработки проектов и долгосрочной деятельности.

В будущем Fermion Instruments продолжит придерживаться клиентоориентированных принципов и принципа «качество прежде всего», предоставляя заказчикам отличное оборудование и продукцию, создавая ещё большую ценность!