Ваше местоположение: Оборудование >Плазма >Высокоэффективные ВЧ плазменные источники > Высокоэффективный ВЧ плазменный пиролизный источник

Высокоэффективный ВЧ плазменный пиролизный источник

ВЧ-плазменный пиролизный источник Fermion Instruments использует технологию ВЧ-фокусировки и работает на четырёх частотах в одной системе: 13,56 / 433 / 915 / 2450 МГц. Помимо производства чистых радикалов даёт высокую плотность потока и концентрацию атомов и ионов на подложке. Сопловая пластина специальной конструкции подавляет повреждение подложки высокоэнергетическими частицами. Применяется в МЛЭ и пассивации для роста нитридов, оксидных слоёв и очистки атомарным водородом.

Горячая линия

Детальный запрос

Технические характеристики

● Оригинальная технология ВЧ фокусировки: высокая эффективность ионизации газа, высокая стабильность источника	● 4 типа твердотельных ВЧ приводов: простая структура, без сложной согласующей сети, простота в эксплуатации	● Применим к N2, O2, H2, CH4, Ar, Kr и другим рабочим газам
● Компактный ультравысоковакуумный дизайн, подходит для установочных портов CF35/CF63/CF100	● Три основных направления применения: атомный источник для роста MBE плёнок, ионный источник для модификации поверхности, плазменный источник для вакуумной очистки

Связаться с нами

После получения информации наши специалисты свяжутся с вами

Некоторые продукты могут быть изготовлены по индивидуальному заказу

Ваша информация будет сохранена в тайне

TOP