Ваше местоположение: Оборудование >Плазма >Высокоэффективные ВЧ плазменные источники > Высокоэффективный ВЧ плазменный источник с высоким ионным током FERMI-RFPS-200

Высокоэффективный ВЧ плазменный источник с высоким ионным током FERMI-RFPS-200

FERMI-RFPS-200 — высокоэффективный ВЧ-плазменный источник производства Fermion Instruments. Плазма возбуждается и поддерживается внутри вакуумной камеры с помощью катушки индуктивности. Рабочие газы включают H₂, N₂, O₂, инертные газы и другие среды. Источник отличается повышенной стабильностью и точной управляемостью. Широко применяется в МЛЭ для роста нитридов, инжекции и легирования атомарным азотом, получения оксидных слоёв и очистки атомарным водородом.

Горячая линия

Детальный запрос

Технические характеристики

● Эффективный и стабильный рост нитридов, оксидов и гидридов	● Точные характеристики контроля, простота в использовании	● Выводной порт может быть заменён по необходимости
● Внутри находятся атомные экранирующие отверстия для минимизации количества ионов, достигающих подложки	● Подходит для систем MBE, вакуумного сколотого покрытия, очистки подложек водородом

Тип	FERMI-RFPS-200
Вакуумная совместимость	Стандартный фланец CF100
Нагрузка газа	N2, H2	O2, H2
Материалы зоны генерации ионов	PBN	Кварц
Метод охлаждения	Водяное охлаждение
Вход газа	Соединитель VCR1/4
Рабочее вакуумное расстояние	100-200 мм
ВЧ согласующее устройство	13.56MHz/500W
Расход воды для охлаждения	>1 л/мин
Ручное/автоматическое ВЧ согласование	Опционально
Детекция спектра плазмы	Опционально

Связаться с нами

После получения информации наши специалисты свяжутся с вами

Некоторые продукты могут быть изготовлены по индивидуальному заказу

Ваша информация будет сохранена в тайне

TOP