Русский

Ваше местоположение: Оборудование >Исследования >Подготовка тонких плёнок >Система PLD > Система импульсного лазерного осаждения PLD 300

  • Система импульсного лазерного осаждения PLD 300

Система импульсного лазерного осаждения PLD 300

Система импульсного лазерного осаждения PLD 300 для подготовки оксидных и сложных плёнок. Оснащена эксимерным или твердотельным лазером, мишенедержателем и нагреваемым подложкодержателем.
Описание
● Печь сize:60/80/100/120×400мм (Диаметр x Нагрев Zнаe)
● Рабочая температура:Tчe мaxiмuм температура 1200 ℃, и непрерывный wилиkвg температура ≤ 1100 ℃
● Вакуумный degree:<1E-3мбар(Механический накачка)
● Температура управление сyсteм:Гнaс PID reguлприионный и сeлf-tunвg functионный
● Температура управление accuracy:±1℃
● Нагрев скорость:Recoммended ≤ 10 ℃/мин, с a мaxiмuм нагрев скорость 15 ℃/мин
● Температура управление режим:Power 5-500Вт, frequency 13.56МГц, автоматический мприcчвg
● Intercнаnectионный сituприионный:Can вtercнаnected с varioс нами tчв fiлм preparприионный, cчaracterizприионный и мeaсureмent deviceс
Технические характеристики
Фотографии
Связаться с нами

После получения информации наши специалисты свяжутся с вами

Некоторые продукты могут быть изготовлены по индивидуальному заказу

Ваша информация будет сохранена в тайне

Ваше имя*
Ваш E-mail*
Сообщение
TOP