Русский

Ваше местоположение: Оборудование >Исследования >Обработка образцов >Ионная/атомарная обработка > Удалённый плазменный источник

  • Удалённый плазменный источник

Удалённый плазменный источник

Изделие использует новую технологию возбуждения удалённой низкотемпературной плазмы, разделяющую камеру генерации плазмы и рабочую камеру, что обеспечивает высокую эффективность возбуждения и низкую общую температуру.
Горячая линия Детальный запрос
Описание

                

                    
●  Compatible with gases: Air and oxygen●  Рабочее давление:5Pa-20Pa（recommend）●  Монтажный фланец:DN40CF
●  Способ охлаждения:Water-cooling●  Рабочая частота:40kHz


Технические характеристики
Фотографии

image.png image.png

Метки： Удалённый плазменный источник
Связаться с нами

После получения информации наши специалисты свяжутся с вами

Некоторые продукты могут быть изготовлены по индивидуальному заказу

Ваша информация будет сохранена в тайне

Ваше имя*
Ваш E-mail*
Сообщение
Сопутствующие товары
TOP